Hochvakuum-Beschichtungssystem
Zu dieser Bekanntmachung ist keine Angebotsfrist bekannt. Der Status wird bei jedem Aufruf aus der Angebotsfrist abgeleitet, nicht gespeichert.
Eckdaten
- Angebotsfrist
- Unbekannt — die Quelle macht dazu keine Angabe
- Auftraggeber
Universität Siegen
- Geschätzter Auftragswert
- Unbekannt — die Quelle macht dazu keine Angabe
- Verfahrensart
Verhandlungsverfahren ohne Teilnahmewettbewerb
Weitere Angaben
- Art des Auftraggebers
Öffentlicher Auftraggeber
- Veröffentlicht
- Vertragsbeginn
- Unbekannt — die Quelle macht dazu keine Angabe
- Vertragsende
- Unbekannt — die Quelle macht dazu keine Angabe
- Rahmenvereinbarung
Nein
- Sprache der Bekanntmachung
de
Beschreibung
- Beschreibung der Leistung
Hochvakuum-Beschichtungssystem
Einordnung
- CPV-Codes
- NUTS-Codes
- Nordrhein-Westfalen
- Erfüllungsort
- Siegen · DEA5A · DE
Lose
- Aufteilung in Lose
- Titel
Hochvakuum-Beschichtungssystem
- Beschreibung
Im Zuge der Anschaffung hochspezialisierter Ausrüstung für die Präparationslabore der zentralen Analytik im INCYTE-Forschungsneubau wurde der Bedarf an einem Hochvakuum-Beschichtungssystem deutlich. Das Gerät soll Proben für die Raster- und Transmissionselektronenmikroskopie sowie für die FIB-Präparation metallisch besputtern und mit Kohleschichten versehen und sie anschließend ohne Atmosphärenkontakt an die vorhandene Vakuum-Transferkette der zentralen Analytik übergeben. Vorrausetzungen: -Flansche serienmäßig in die Prozesskammer integriert sind -das erreichbare Kammervakuum von ? 2 × 10?6 mbar, erzeugt von einem vollständig integrierten ölfreien Pumpsystem aus 4-stufiger Membranpumpe (13 l/min) und Turbomolekularpumpe (67 l/s). - die gleichzeitige Bestückung der Kammer mit einer Sputter- und einer Kohlefadenquelle. Beide Verfahren sind in einem Gerät ohne Brechung des Vakuums nutzbar und lassen sich als programmierte Sequenz automatisch und reproduzierbar nacheinander ausführen - Ein integrierter Schichtdickenmonitor auf Basis der Quarzkristallmessung kontrolliert die Schichtdicke in situ mit einer Genauigkeit von 0,1 nm. Die um 25° gekippten Quellen sorgen zusammen mit der Tischrotation für eine homogene Beschichtung, das Kohlefaden-Pulsverfahren liefert artefaktfreie, reproduzierbare dünne Kohleschichten, der Sputterstrom ist stufenlos bis 150 mA einstellbar, und die Prozessführung erfolgt rezeptbasiert über einen integrierten Touchscreen.
- CPV-Codes
- NUTS-Codes
- Nordrhein-Westfalen
- Geschätzter Wert
- Unbekannt — die Quelle macht dazu keine Angabe
Unterlagen der Quelle
Quelle
Diese Bekanntmachung stammt von TED — Tenders Electronic Daily. Kennung der Quelle: 652607-2026.
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